SWD-223硫酸鹽型光亮酸錫工藝
一．特點
SWD-223工藝是極光亮硫酸鹽型的鍍錫工藝，鍍層的延展性，可焊性極佳，適用于掛鍍，滾鍍和高速鍍工藝。對于鉛錫PC抗蝕鍍層，它是一種極好的無鉛替代工藝。
與其它酸錫工藝相比，SWD-223適用的范圍更寬。無論開缸還是補加，所用的光劑都很少，這使得工藝成本降低。鍍液穩(wěn)定。通過變換操作參數(shù)，此工藝適用于常規(guī)和高速操作。鍍層極佳的可焊性已被ASTM B678-86試驗所證明。
二．操作條件
最佳 范圍
硫酸亞錫 g/L 15 15-20
硫酸（CP級） %，v/v 10 9-11
SWD-223A %，v/v 2.5 2-3
SWD-223B %，v/v 0.2 0.2-0.3
溫度 ℃ 8 5-10
陰極電流密度
掛鍍 A/dm2 2 0.5-4
滾鍍 A/dm2 1 0.5-3
陽極電流密度 A/dm2 1 1-3標準值2.5%
過濾 按所推薦的方法
攪拌 溶液流動或陰極移動
陽極 至少含99.99%的純錫
三．開缸
1． 在潔凈濾洗過的槽里注入一半體積的去離子水或蒸餾水。
2． 邊攪拌邊慢慢加入總體積10%（v/v）的硫酸（CP級）。處理酸時應(yīng)特別小心。
3． 在去離子水或蒸餾水中加入硫酸亞錫使其濃度為240g/L，不停地攪拌該懸浮液。
4． 用去離子水調(diào)節(jié)至最終體積的90%。
5． 使溶液冷卻至23℃。
6． 一旦溶液冷卻，邊攪拌邊加入一定量的SWD-223A。
7． 加入一定量的SWD-223B或SWD-223HS。
8． 用去離子水調(diào)節(jié)至操作液位。
四．工藝循環(huán)
1．銅，無鋅銅合金和不銹鋼基體
1． 脫脂出油。
2． 冷水洗。
3． 冷水洗。
4． 浸入5%的硫酸。
5． 冷水洗。
6． SWD-223鍍錫工藝。
2．黃銅基體
鍍錫之前，黃銅部分應(yīng)用本公司的銅或鎳鍍上一層0.25微米的擴散阻擋層，
這層擴散阻擋層可以防止鋅擴散到錫層。鋅的引入將導(dǎo)致可焊性變差，鍍層變色。有了擴散阻擋層后，工藝過程和上面列出的一樣。
五．設(shè)備
攪拌 掛鍍要用陰極移動，速度為1.5-3.0m/min。
過濾 掛鍍必須過濾，用10μm的PP或Dynel濾芯，不能用紙或 纖維素過濾。
陽極 至少含99.99%純錫。陽極鉤用鈦或覆Monel，陽極袋用PP或Dynel。
缸 PP，PE，PVC或耐酸玻璃纖維襯的不銹鋼槽，使用前應(yīng)用5%硫酸洗。
加熱/冷卻 鍍液溫度必須維持在建議范圍內(nèi)。冷卻可用Teflon，鉛或鈦圈，鉛或鈦圈應(yīng)該與電源隔離。
整流器 6伏整流器，最大波紋為5%。
六．控制
1． 硫酸亞錫的分析
設(shè)備
2 mL 移液管
5 mL 移液管
10 mL 移液管
50 mL 滴定管
100 mL 量筒
250 mL 錐形瓶
試劑
0.1N 碘酸鉀溶液（KIO3）：180℃，干燥KIO3晶體（AR級）至恒重。溶解3.570g KIO3于大約200 mL，含1g NaOH，23g KI的水中。在容量瓶中稀釋至1L。
淀粉指示劑： 購買
20%硫酸（H2SO4）溶液： 在80mL去離子水中小心地加入20mL濃硫酸。*注意：只能將酸 加入水中，絕不能將水加入酸中。
步驟
1． 用移液管吸取5 mL SWD-223工作液至250 mL錐形瓶中。
2． 加20 mL 20% H2SO4和75 mL去離子水。
3． 加大約2 mL淀粉指示劑，用0.1N KIO3滴定至粉紅色。
計算
（KIO3的體積）×（KIO3 的當(dāng)量濃度）×21.3 = g/L硫酸亞錫
補加
為在鍍層上得到均勻和標準的整體光亮，硫酸亞錫的濃度應(yīng)在22.5-30g/L之間。為保證低區(qū)最佳光亮度，硫酸亞錫應(yīng)為15g/L；高速操作時，硫酸亞錫應(yīng)為37.5-60g/L。
2．游離硫酸的分析
儀器
5 mL 移液管
50 mL 滴管
100 mL 量筒
250 mL 錐形瓶
試劑
4.0%草酸銨[(NH4)2C2O4.H2O]溶液：溶解40.0g草酸銨于去離子水或蒸餾水中,并稀釋至1L。
1.ON 氫氧化鈉（NaOH）： 溶液溶解40gNaOH于500mL去離子水或蒸餾水中，并在容量瓶中稀釋至1L。用已知濃度的H2SO4標定。
1%甲基紅指示劑： 溶解1.0g甲基紅鈉于100mL去離子水中。*注意：不能用羥-甲基紅指示劑。
步驟
1． 移取5mL SWD-223工作液并置于250mL錐形瓶中。
2． 加100mL 4%草酸銨和5滴甲基紅指示劑。
3． 用1.0N NaOH滴定直到顏色由紅變黃。
計算
（NaOH的體積數(shù)）×（NaOH的當(dāng)量濃度）×（0.53）= %（v/v）H2SO4
補加
硫酸要維持在10.5% (v/v)。高速鍍操作時，建議采用7.0%的濃度，因為低濃度將使低區(qū)的光亮度不好。
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